Desarrollo de la forma, planimetría y patronaje - Marina Cabezas

De Casiopea



TítuloDesarrollo de la forma, planimetría y patronaje - Marina Cabezas
AsignaturaTaller Topológico Multiescalar
Del CursoTaller Topológico Multiescalar 2020
CarrerasDiseño, Diseño Gráfico"Diseño Gráfico" is not in the list (Arquitectura, Diseño, Magíster, Otra) of allowed values for the "Carreras Relacionadas" property., Diseño Industrial"Diseño Industrial" is not in the list (Arquitectura, Diseño, Magíster, Otra) of allowed values for the "Carreras Relacionadas" property.
7
Alumno(s)Marina Cabezas

PROCESO

Trazos iniciales

Para obtener el desarrollo de la tela se cubrió la superficie con masking tape.

Proceso masking 1.jpg Proceso masking 2.jpg

Al reforzar los arcos se probaron distintas maneras de aplicar el masking con la intención de descubrir algún indicio de líneas de fuerza.


Maqueta 1

Se reconocen puntas que no se detienen en el arco y se opta por utilizar un desarrollo que contemple mayor cantidad de piezas

Búsqueda de las líneas de fuerza

MAQUETA FINAL

CONSTRUCCIÓN FINAL

Detalles constructivos

Maqueta marina detalle 1.jpg Maqueta marina detalle 2.jpg Maqueta marina detalle 3.jpg

Planimetrías